金融界2025年8月4日消息，国家知识产权局信息显示，朗姆研究公司申请一项名为“用于控制衬底凹口附近的等离子体沉积或蚀刻的下等离子体排除区域环”的专利，公开号CN120418925A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，用于衬底处理室的下等离子体排除区域环包括环形体，该环形体包括径向内表面、径向外表面、上表面和下表面。等离子体排除区域(PEZ)环凹口被布置于环形体的上表面和径向外表面上。
朗姆研究申请用于控制衬底凹口附近的等离子体沉积或蚀刻的下等离子体排除区域环专利，用于衬底处理室的下等离子体排除区域环包括环形体(朗姆种类)
特别声明：[朗姆研究申请用于控制衬底凹口附近的等离子体沉积或蚀刻的下等离子体排除区域环专利，用于衬底处理室的下等离子体排除区域环包括环形体(朗姆种类)] 该文观点仅代表作者本人，今日霍州系信息发布平台，霍州网仅提供信息存储空间服务。
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