全球『芯片』行业洗牌在即：2nm延期量产引发的震荡与重塑
『芯片』制程微缩的竞赛，宛如一场没有终点的马拉松。然而，这场竞赛如今却面临着一个意想不到的“真空期”。原本被寄予厚望的2nm『芯片』量产，却遭遇了延期，这无疑在全球『芯片』行业投下了一颗重磅炸弹。台积电总裁魏哲家的一句“做梦也没想到2nm需求比3nm还多”，既是对市场热度的感慨，也暗示着2nm工艺的紧迫性。
原本计划在2025年大放异彩的2nm『芯片』，如今却不得不推迟到2026年才能实现大规模量产。首当其冲的影响便是，包括苹果iPhone 17的A19『芯片』、联发科天玑9500以及高通第五代『骁龙』8至尊版在内的众多旗舰『芯片』，不得不集体“降维”，转而选择台积电的N3P工艺作为过渡方案。尽管联发科高调宣布完成了2nm天玑9600的设计流片，但距离真正量产，仍需漫长的等待。
那么，究竟是什么原因导致了2nm『芯片』的“真空期”呢？
2nm延期背后的技术瓶颈与成本压力
首先，是时间上的错配。台积电的2nm工艺预计在2025年下半年才能开始量产，然而，手机厂商的产品迭代周期却容不得如此漫长的等待。一位『芯片』设计从业者一语道破玄机：“从流片到拿到『芯片』需要几个月，拿到『芯片』后进行功能和性能调试，一般又需要花费数月。” 即使是像苹果这样拥有强大实力的客户，即便能在2024年底完成A20『芯片』的流片测试，也需要在2025年6月才能投片量产，根本无法赶上iPhone 17的备货需求。富士康的生产线，绝不可能为一颗迟到的『芯片』而停摆。
其次，是良率的挑战。3nm工艺初期良率仅为60%左右，而更为复杂的2nm工艺必然面临着同样的考验。业内人士预测，2nm产品导入初期的良率可能仅略高于70%，只有到2026年才能逐步提升至80%。
除了良率之外， 2nm制程更是『芯片』制造领域的一次重大革新，它首次采用了环绕栅极（GAAFET）晶体管技术，取代了沿用多年的FinFET技术。这种全新的技术架构，通过四面环绕的栅极结构，能够实现更为精准的电流控制，从而在相同面积内提供更高的驱动电流和更低的漏电流。此外，背面供电网络技术也是2nm节点的另一项关键创新。它将电源传输线路转移至『芯片』背面，从而释放正面空间用于信号走线，显著提升『芯片』的布线密度和整体性能。然而，这些技术革新也带来了前所未有的技术挑战。
技术难度的飙升，也直接导致了研发成本的水涨船高。主流晶圆厂在2nm节点的研发上，需要耗费4-6年的时间，每年的研发投入普遍超过10亿美元💵。台积电在2022年的研发投入更是高达36亿美元💵。
摩尔定律放缓：行业面临范式转变
从台积电的工艺演进时间表来看，7nm、5nm、3nm和2nm的量产时间分别为2018年、2025年、2023年和2025年，平均间隔在30个月左右，已经远远超过了摩尔定律所提出的18-24个月的周期。更令人担忧的是，从2nm时代跨越到1nm时代，预计至少还需要等待3年时间，工艺升级的节奏正在明显放缓。这意味着，『芯片』行业已经进入了一个新的发展阶段，必须适应这种新的常态。摩尔定律的“节拍器”效应正在减弱。
值得注意的是，按照台积电的规划，2nm节点将拥有N2、N2P、N2X和升级版的A16（1.6nm）四个迭代版本，这分别对应着苹果A20、A21、A22和A23四代『芯片』的使用。
2nm之后：更激烈的技术竞赛与市场博弈
尽管2nm『芯片』的量产推迟，但其所能带来的性能提升，仍然足以让全球科技巨头趋之若鹜。台积电N2节点与3nm相比，逻辑密度增加1.2倍，在同等功耗下性能提升10-15%，或在同等性能下功耗降低25-30%。联发科的官方新闻稿几乎佐证了这些数据：台积电增强版2nm制程逻辑密度增加1.2倍，相同功耗下性能提升高达18%，相同速度下功耗减少约36%。这些性能提升对AI训练和推理任务尤为重要，2nm『芯片』将为AI『服务器』、『智能手机』等终端设备带来真正的性能跃升，这也是为什么台积电总裁魏哲家会感叹“做梦也没想到2nm需求比3nm还多”。
台积电凭借其在先进制程上的技术优势，已经开始接受2nm订单，并占据了主导地位。该公司已从2025年4月1日起开始接受2nm订单，苹果、AMD、『英伟达』、联发科等巨头均已预订产能。
与此同时，其他『芯片』制造商也在积极应对这场变革。『三星电子』试图通过提前导入GAAFET技术实现弯道超车，计划在2025年下半年开始2nm工艺量产，但其良率目前仅为40%左右，远低于台积电水平。英特尔则采取了更为复杂的策略，取消了2nm（20A）工艺，暂停18A（1.8nm）的开发，全力冲刺14A（1.4nm）工艺。而由日本政府主导成立的Rapidus公司，获得了丰田、索尼等日本企业的联合投资，计划在2027年实现2nm量产，月产能预计可达2.5万片晶圆。
在2nm之后，更为激烈的技术竞赛已经拉开序幕。台积电计划在2026年量产A16节点（1.6nm），并结合超级电轨架构。与N2P相比，A16在相同电压和设计条件下可实现8-10%的性能提升。为了实现更精细的电路图案化，ASML的高数值孔径EUV光刻机成为了各大厂商争夺的焦点。每台成本超过3.5亿欧元💶，是现有EUV系统价格的两倍多。但随着制程微缩接近物理极限，行业也在积极寻找新的突破方向。台积电正在通过封装技术、材料技术的改进，例如CoWOS封装，来推动晶体管技术的提升。
随着2nm工艺的量产时间推迟到2026年，全球『芯片』行业正迎来一个转折点。台积电、三星和英特尔等巨头的竞争已经超越了商业范畴，上升至国家战略的层面。『芯片』制造商们不仅在为2nm做准备，还在规划更远的未来——台积电的A16（1.6nm）工艺已定于2026年量产。对于普通消费者来说，可能要等到2026年的iPhone 18，才能真正体验到2nm『芯片』带来的性能飞跃。
