二氧化硅膜厚测试仪主要采用的是光学干涉测量原理。具体来说，当单色光垂直照射到二氧化硅膜层表面时，光波会在膜的表面以及膜与基底的界面处发生反射。这些反射光波之间会产生干涉现象，即光波叠加时，其强度会增强或减弱，取决于光波的相位差。
在测量过程中，当两束反射光的光程差是半波长的偶数倍时，会出现亮条纹；而当光程差是半波长的奇数倍时，则会出现暗条纹。膜厚仪会记录这些干涉条纹的数量，并结合入射光的波长和二氧化硅的折射系数，利用光的干涉公式来计算得到二氧化硅膜的厚度。
此外，二氧?枘ず癫馐砸堑牟饬烤群芨撸蛭缮嬉鞘怯霉獠ǖ牟ǔのノ焕床獾霉獬滩畹模匀魏挝⑿〉墓獬滩畋浠蓟岷芰槊舻匾鸶缮嫣跷频钠啤Ｕ庵制瓶梢员痪凡饬浚佣迪侄远趸枘ず穸鹊木凡饬俊?/p>
综上所述，二氧化硅膜厚测试仪通过利用光学干涉测量原理，能够实现对二氧化硅膜厚度的精确、快速测量，为相关领域的科研和工业生产提供了重要的技术支?帧?/p>
