清溢光电：已实现180nm工艺节点『半导体』『芯片』掩膜版量产(清溢光电是做什么的)

金融界8月4日消息，有投资者在互动平台向清溢光电提问：请问公司的掩膜版目前主要生产的规格是多少nm？是否可以量产更小规格的。

公司回答表示：尊敬的投资者，您好！目前，『半导体』『芯片』掩膜版技术方面，公司已成功实现180nm 工艺节点『半导体』『芯片』掩膜版的量产，并完成了150nm工艺节点掩膜版的小规模量产，正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm『半导体』『芯片』所需的掩膜版工艺开发规划。平板显示掩膜版技术方面，公司已实现8.6代高精度TFT用掩膜版、6代中高精度AMOLED/LTPS等掩膜版，以及中高端半透膜掩膜版(HTM)产品的研发与量产。