美国战略研究中心:中国的光刻机落后严重,远差于ASML和日本尼康,中国的『芯片』制造技术被卡在了2025年(美国战略研究所)

最近,美国华盛顿的一个叫“安全与技术中心”的智库,又跳出来喊话了。

他们在一篇专栏报告中明确指出:中国在『芯片』制造上的确取得了技术进步,但——光刻机还远远落后,尤其是和荷兰的ASML、日本的尼康一比,差距非常大。

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更直接的话他们也说了:中国的『芯片』技术,卡在了2023年的7nm节点,到现在为止还没突破。

听上去确实刺耳。但问题来了:他们为什么现在又重提这个?

原因只有一个:他们怕了。

他们知道,在美国多年的疯狂封锁下,我们国家居然还能硬生生地啃出一颗7nm国产『芯片』,装上了『智能手机』,这事儿,不是小事,是敲钟警告⚠️!

你要知道,咱们现在公开的光刻机,还停留在干式193nm波长,分辨率65nm,套刻精度≤8nm。按他们说法,这个水平,只能勉强撑到28nm的制程,根本搞不定14nm以下的FinFET工艺。

这话没毛病。但这不是废话么?你把人家最关键的EUV设备全都卡死了,连一个零部件都不让买,然后转头又说人家“落后”?

你上门抢人家锤子和钉子,然后嘲笑人家造不出桌子,这不是打人还骂人?

更离谱的是,美国人现在还专门翻出2018年、2019年ASML高管访华时候的记录,说当时ASML的CTO、总裁一看中国光刻机,连连摇头,说“技术瓶颈太多”。

可他们怎么不说,那时候ASML是靠整个欧美技术供应链一块堆出来的?你看看ASML那台EUV背后,是几百家顶级公司在供血,中国呢?连个微光源都得自己啃。

你说差距大?当然大!那不是我们不努力,是你天天堵门口。

要我说,现在的问题根本不是“差距有多大”,而是“我们还能不能走自己的路”。

美国智库的结论是:中国被卡死在了2023年,因为没有EUV,先进制程走不下去。听起来很权威,很决绝。但别忘了,这不是我们国家的终点,而是他们的期望。

他们希望我们永远停在7nm,希望我们从此放弃、崩溃、转向“买别人的”。

但现实是——我们没崩,我们反而顶住了。

现在我们国家已经在搞自己的浸润式系统,这不是“弯道超车”,而是“没有路也要劈一条出来”。我们没有ASML的EUV,但我们有全套193nm设备的突破,有光源、有掩膜、有曝光平台,每一步都在靠自己的产业链啃出来。

就像报告里说的:想复制ASML是不可能的,咱们只能靠本土产业链一点点搭。这条路很苦,但也正因为苦,才没人能卡得死。

你把全球都锁死了,结果我们居然还装出了7nm手机『芯片』。这件事的意义不是“『芯片』性能怎么样”,而是说明了:在你围堵之下,我还能发出光,这才是你最害怕的!

他们说我们卡住了,其实是他们在提醒自己:必须继续打压。因为他们明白,只要中国『芯片』一天不垮,ASML和『英伟达』的神话就一天不能高枕无忧。

这不是技术问题,这是话语权的问题。

所以兄弟们,这一仗不是拼参数,而是拼生存。我们不缺技术人才,不缺制造能力,缺的是时间、生态和一个不被绞杀的市场环境。

但现在,他们连H20这种“第三流”的『芯片』都想倾销给我们,用低价把我们自己的AI『芯片』搞死,说明什么?说明他们看出来了,我们不是只能自救,我们是有可能翻盘。

他们怕的不是我们落后,而是怕我们有一条不靠他们的出路。

所以,这个报告不是在告诉我们“你们不行”,而是在提醒我们,“你们要是再往前走一步,我们就真的挡不住了”。

这时候最怕的不是他们,而是我们自己动摇。

光刻机我们还没完全搞定,但我们已经从“全靠进口”走到了“国产能用”,这条路,我们走得再苦,也得走到底。

因为——只有光刻不再卡脖子,中国『芯片』,才真正站得起来!

特别声明:[美国战略研究中心:中国的光刻机落后严重,远差于ASML和日本尼康,中国的『芯片』制造技术被卡在了2025年(美国战略研究所)] 该文观点仅代表作者本人,今日霍州系信息发布平台,霍州网仅提供信息存储空间服务。

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