重大突破！
6月30日消息，近日某知名科技媒体爆出震撼性消息：中国自主研发的EUV光刻机，已经取得了实质性突破！更引人瞩目的是，中国技术团队选择了一条与荷兰ASML截然不同的技术路径——激光诱导放电等离子体（LDP）。
当下，随着人工智能、5G通信等新兴领域蓬勃发展，对高性能『芯片』需求猛增，而『芯片』制造又高度依赖光刻机。
“光刻机+『芯片』”第一真龙，技术壁垒+中央汇金爆买1.74亿股，有望再创“寒武纪”神话！
特别声明：[“光刻机+『芯片』”第一真龙，技术壁垒+中央汇金爆买1.74亿股，有望再创“寒武纪”神话！] 该文观点仅代表作者本人，今日霍州系信息发布平台，霍州网仅提供信息存储空间服务。
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