通威微电子取得晶圆研磨专利,提高了研磨效率

金融界 2025 年 5 月 16 日消息,国家知识产权局信息显示,通威微电子有限公司取得一项名为“晶圆研磨用游星轮及晶圆研磨装置”的专利,授权公告号 CN222857654U,申请日期为 2024 年 7 月。

专利摘要显示,本实用新型实施例提供了一种晶圆研磨用游星轮及晶圆研磨装置,涉及晶圆加工技术领域。该晶圆研磨用游星轮包括游星轮本体。其中,游星轮本体上设置有至少两个晶圆承载部,晶圆承载部用于承载晶圆。游星轮本体上设置有导液槽,导液槽位于相邻两个晶圆承载部之间,用于引导研磨液排出。该晶圆研磨用游星轮及晶圆研磨装置,通过在游星轮本体上设置至少两个晶圆承载部,能够承载至少两个晶圆,对于单个游星轮也能够同时对至少两个晶圆进行双面研磨,提高了研磨效率。另外,可选地,S 形导液槽能够同时对相邻两个晶圆在研磨时的研磨液进行导出,提高了研磨液导出的效率和效果,提高了晶圆研磨效果。

天眼查资料显示,通威微电子有限公司,成立于2025年,位于成都市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本85000万人民币。通过天眼查大数据分析,通威微电子有限公司参与招投标项目14次,专利信息287条,此外企业还拥有行政许可12个。

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