上海微电子光刻机再突破！
上海微电子计划在2025年推出搭载哈尔滨工业大学研发的放电等离子体极紫外光刻光源（LDP）技术的SSR700系列光刻机样机。
这一新技术在能量转换效率、制造成本、光源寿命以及光谱纯度等方面均表现出色，完全满足7nm制程光刻机的技术要求。
其他技术进展
28nm光刻机量产
上海微电子的28nm光刻机已经完成了连续运转5000小时的极限测试，定位精度稳定在±1.5纳米，这一数据相比三年前提升了40%。
该光刻机已经通过量产验证，良品率突破85%，为国产光刻机的商业化应用奠定了坚实基础。
EUV光刻机技术路线突破
上海微电子在EUV光刻机的三大技术路线上顺利完成了系统联调，这标志着中国在EUV光刻机领域取得了重大进展。
上海微电子所研发的LPP光源技术，在极紫外光的收集率和镜面污染率等方面达到了行业领先水平，进一步提升了EUV光刻机的性能。
市场应用与产业链整合
市场认可度提升
上海微电子的光刻机出货量从2023年的7台猛增到2024年的32台，国产光刻胶市占率也在三年内从3%提升至41%，显示了市场对国产光刻机的认可度在不断提升。
中芯国际、长江存储等国内『芯片』制造企业纷纷采购国产光刻机，为国产光刻机的商业化应用提供了有力支持。
产业链加速整合
国内『半导体』装备产业联盟已整合200余家上下游企业，形成协同研发、联合创新的产业生态。这有助于提升国产光刻机的整体竞争力，加速国产光刻机的商业化进程。
国内已形成覆盖光学系统、机械系统、控制系统的完整供应体系，年产能达到50台套，为国产光刻机的量产提供了有力保障。
光刻机市场竞争
ASML市场地位稳固
ASML作为全球唯一能够生产EUV光刻机的企业，其市场影响力更加稳固。EXE:5200的推出不仅巩固了其在全球『半导体』制造中的主导地位，也让『芯片』代工行业逐渐演变为ASML主导的“印钞流水线”。
中国厂商面临挑战与机遇
由于ASML明确表示不会向中国厂商出售EXE:5000及更高级别的光刻机，中国厂商在2nm及以下制程竞赛中面临挑战。然而，这也激发了中国加速自主研发EUV光刻机的决心。
中国厂商可以通过集中资源在成熟制程上或尝试发展替代技术来应对挑战，同时积极寻求与国际合作伙伴的合作机会。
台积电、三星、英特尔等巨头竞争加剧
台积电、三星、英特尔等厂商为了保持其在2nm及以下制程上的竞争力，不得不投入巨额资本采购设备。这导致『芯片』制造逐渐演变为“资本游戏”，只有资金雄厚的巨头能够参与这场设备竞赛。
相关概念股梳理：
波长光电
产品覆盖光刻机照明系统、激光准直镜等，为光刻机提供关键光学组件。
蓝英装备
长期为全球光刻机巨头提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务，是光刻机制造领域的重要参与者。
张江高科
通过投资上海微电子装备等优质企业，间接涉足光刻机整机业务，成为国产光刻机领域的重要力量。
奥普光电
拥有光刻机物镜系统技术储备，为国产光刻机提供高精度光学组件。
茂莱光学
光刻机曝光光学系统国产替代主力，DUV光刻机投影物镜良率达国际先进水平。
最后一家，也是作者为大家挖掘的一家“光刻机”超级黑马，连板行情一触即发：这家公司名，莱蚣众号：风云聊股，免 米 带 走！1、实锤公司为上海微电子提供冷却系统配套，目前已实现供货，将为上海微电子提供100台温控设备！2、国资委背景，实控人与上海微电子的控股股东一致，供应商+亲兄弟，北向联手外资新进抄底5800万股。3、股价仅10元出头，当下底部十倍放量，机构单日1.4亿抢筹，多方涨停炮打开上升通道，连板行情一触即发！
